在半导体制造中，卧式炉常用于哪些工艺？​

赛瑞达智能电子装备（无锡）有限公司2025-03-08

在半导体制造流程中，卧式炉常用于多种关键工艺。氧化工艺时，在卧式炉高温环境下，硅片与通入的氧气反应，生长出高质量的氧化层，这是芯片制造中构建绝缘层的重要步骤。扩散工艺借助卧式炉，让掺杂原子在高温条件下扩散进入半导体材料，改变其电学性能，用于制造晶体管、二极管等器件。退火工艺同样依赖卧式炉，它能消除半导体材料在加工过程中产生的内部应力，修复晶体缺陷，提升材料电学性能与稳定性，对提升芯片整体性能意义重大。​

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